Uniwersytet Warszawski, Wydział Fizyki - Centralny System Uwierzytelniania
Strona główna

Optical System Design with Zemax OpticStudio

Informacje ogólne

Kod przedmiotu: 1100-OSDZ
Kod Erasmus / ISCED: (brak danych) / (brak danych)
Nazwa przedmiotu: Optical System Design with Zemax OpticStudio
Jednostka: Wydział Fizyki
Grupy: Physics (Studies in English), 2nd cycle; specialization courses
Physics (Studies in English); 2nd cycle
Punkty ECTS i inne: (brak) Podstawowe informacje o zasadach przyporządkowania punktów ECTS:
  • roczny wymiar godzinowy nakładu pracy studenta konieczny do osiągnięcia zakładanych efektów uczenia się dla danego etapu studiów wynosi 1500-1800 h, co odpowiada 60 ECTS;
  • tygodniowy wymiar godzinowy nakładu pracy studenta wynosi 45 h;
  • 1 punkt ECTS odpowiada 25-30 godzinom pracy studenta potrzebnej do osiągnięcia zakładanych efektów uczenia się;
  • tygodniowy nakład pracy studenta konieczny do osiągnięcia zakładanych efektów uczenia się pozwala uzyskać 1,5 ECTS;
  • nakład pracy potrzebny do zaliczenia przedmiotu, któremu przypisano 3 ECTS, stanowi 10% semestralnego obciążenia studenta.

zobacz reguły punktacji
Język prowadzenia: angielski
Kierunek podstawowy MISMaP:

fizyka

Założenia (opisowo):

Necessary knowledge:

- ray optics, imaging

- basics of optical aberrations


It is recommended to pass the Instrumental optics course before taking this course.

Skrócony opis:

The goal of the lecture is to introduce basics of optical system design by ray tracing using OpticStudio program by Zemax.

Pełny opis:

The lecture is aimed primarily towards MSc level students specializing in optics. The course consists of 10 computer classes. The course introduces students to the Zemax OpticStudio program, basic optical system design skills, and knowledge of good design principles. Participants will learn to analyse the quality of optical systems, compensate its aberrations, optimize it, and simulate real systems performance.

Program:

1. Introduction to OpticStudio

2. First lens

3. Power splitting

4. Merit function and design rules

5. Principles of optimization: local and global optimization

6. Glass choice and achromatic systems

7. Simple imaging systems

8. Image simulation

9. Basic off-axis systems

10. Tolerancing

Literatura:

1. Joseph M. Geary, “Introduction to Lens Design with Practical Zemax Examples”.

2. Warren J. Smith, “Modern Optical Engineering".

3. Eugene Hecht, “Optics”.

Efekty uczenia się:

After completing the course student knows basics of optical system design, aberration analysis, material choice and tolerancing. Students gain the practical skill of designing simple optical systems and of system quality analysis using the Zemax OptiStudio program.

Metody i kryteria oceniania:

In-class activity during the term (51%), final project (49%)

Przedmiot nie jest oferowany w żadnym z aktualnych cykli dydaktycznych.
Opisy przedmiotów w USOS i USOSweb są chronione prawem autorskim.
Właścicielem praw autorskich jest Uniwersytet Warszawski, Wydział Fizyki.
ul. Pasteura 5, 02-093 Warszawa tel: +48 22 5532 000 https://www.fuw.edu.pl/ kontakt deklaracja dostępności USOSweb 7.0.3.0 (2024-03-22)